1.一种动态控制激光淬火参数的方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、建立激光淬火参数P/v与激光淬火区域温度T的关系式，拟合获得拟合方程式式中：k1、k2、k3分别为拟合方程式的系数，由待淬火基质决定，P为激光功率密度，v为激光扫描速度；
S2、确定激光淬火参数随激光淬火区域温度T变化的规则

2.1)定义初始时刻激光淬火区域温度T0；
2.2)采集激光淬火在t时刻的激光淬火区域温度为Tt；
2.3)根据步骤1获得的拟合方程式，计算激光淬火在t+1时刻的拟合方程式为：
式中：A、B、C均为t+1时刻激光淬火参数的系数；
2.4)固定激光扫描速度v，根据步骤2.3)获得的拟合方程式，可得单一变量的P‑T控制规则为式中：A1、B1、C1均为单一变量P‑T控制规则P(t)的系数；
或者，固定激光功率密度P，根据步骤2.3)获得的拟合方程式，可得单一变量的v‑T控制规则为式中：A2、B2、C3均为单一变量v‑T控制规则v(t)的系数，D为常数；
S3、激光淬火将步骤2.4)中，获得的单一变量的P‑T控制规则，或单一变量的v‑T控制规则输入基于温度场监控动态控制激光淬火参数系统的控制器中，并在控制器中设定需要的初始时刻激光淬火区域温度T0，实时采集激光淬火区域温度T，实现激光淬火的动态控制。
2.根据权利要求1所述的一种动态控制激光淬火参数的方法，其特征在于：S1中，所述k1取值为‑4.95208，k2取值为0.19148，k3取值为0.00385，则拟合方程式为

3.根据权利要求2所述的一种动态控制激光淬火参数的方法，其特征在于：步骤2.3)中，所述A取值为‑4.95208，B取值为0.19148，C取值为0.00385，则拟合方程式调节为：

4.根据权利要求3所述的一种动态控制激光淬火参数的方法，其特征在于：步骤2.4)中，所述A1取值为‑0.5942496，B1取值为0.0229776，C1取值为0.000462，则单一变量的P‑T控制规则为

5.根据权利要求3所述的一种动态控制激光淬火参数的方法，其特征在于：步骤2.4)中，所述A2取值为‑4.95208，B2取值为0.19148，C2取值为0.00385，D取值为4500，则单一变量的v‑T控制规则为

6.根据权利要求4或5所述的一种动态控制激光淬火参数的方法，其特征在于，S1具体为：
1.1)通过调节激光淬火区域温度T，获得不同激光淬火区域温度对应的激光淬火参数；
1.2)建立激光淬火区域温度T与激光淬火参数的关系式1.3)利用数据的非线性拟合方法拟合f(T)，获得拟合方程式式中：k1、k2、k3分别为拟合方程式的系数，由待淬火基质决定。

7.根据权利要求6所述的一种动态控制激光淬火参数的方法，其特征在于：S2中，采用红外测温仪监测激光淬火区域温度T。

8.根据权利要求7所述的一种动态控制激光淬火参数的方法，其特征在于：S1中，所述待淬火基质为钢制大平板。