本发明提出了一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法。该方法采用的原料组分为AlF、BaF、MgF、SiO、YO、CoO，所占摩尔百分数分别为25～40%、15～30%、10～25%、14～25.5%、2～4%、2～3.5%；称取原料混合均匀，加入钳锅，熔制温度控制在1050--1150℃左右，并持续搅拌；待熔融得到澄清玻璃液后，降温至900-950℃，将高温的玻璃液注入到已经预热好的模具中成型；快速放入马弗炉中，以10℃/小时进行退火，直到温度降至50℃，关闭马弗炉，待自然降至室温，取出最终成品。该方法制备得到的材料损伤阈值高，可选择性地滤掉二倍频光，在紫外波段高透。

1.一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）准备原料，其中各组分粉料的粒径为180～220微米，均为化学纯；配比如下：玻璃组分 摩尔百分数mol%根据摩尔百分比计算出以上各组分的重量百分比，称取原料混合均匀；（2）将混合均匀后的原料加入钳锅中，加热熔融，熔制温度控制在1050--1150℃左右，并持续搅拌；（3）待熔融得到澄清玻璃液后，降温至900-950℃，将高温的玻璃液注入到已经预热好的模具中成型；（4）将装有玻璃液的模具放入马弗炉中，以10℃/小时进行退火，直到温度降至50℃，关闭马弗炉，待自然降至室温，取出成品，即为高损伤阈值的二倍频光吸收材料。

2.根据权利要求1所述的高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法，其特征在于：步骤（1）采用的原料组分为AlF3、BaF2、MgF2、SiO2、Y2O3、CoO，所占摩尔百分数分别为40%、15%、25%、14%、2.5%、3.5%。

3.根据权利要求2所述的高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法，其特征在于：步骤（2）中熔制温度控制在1100℃。